Tantalov lonček s pokrovom

Pregled izdelka in poudarki oblikovanja

Na mejnih področjih, kot je epitaksialna rast polprevodnikov (MBE/CVD), taljenje redkih zemeljskih kovin visoke-čistosti, prevleka z elektronskim žarkom (E-Beam Evaporation) in laboratorijska visoko-temperaturna analiza, je inertnost in tesnjenje posod za jedke taline pri ultra-visokih temperaturah ključnega pomena. Naši tantalovi lončki visoke -čistosti s pokrovi/miniaturnimi tantalovimi celicami so zasnovani za ultra-visok vakuum (UHV) in ekstremno kemično korozijo ter zagotavljajo zanesljivo visoko{7}}temperaturno zaščito pred taljenjem za visoko-natančne poskuse in industrijsko proizvodnjo.

Kot je prikazano na fizični sliki, ta serija izdelkov vključuje tanko cilindrično tanko{0}}ohišje tantalovega lončka in natančno usklajene-pritrjene pokrove iz tantala. Material je izdelan iz-plošč ali palic čistega tantala visoke gostote s čistoto večjo ali enako 99. 95% (stopnja polprevodnikov visoke-čistosti lahko doseže 99,99%) in je obdelan z brezšivnim globokim vlečenjem ali natančnim CNC integralnim struženjem. Brezšivna konstrukcija celotne strukture močno poveča tveganje koncentracije toplotne napetosti in puščanja pri visokih temperaturah. Notranja in zunanja površina lončka imata enoten svetlo srebrn sijaj, šoba in pokrov pa dosegata visoko{9}}natančno mikronsko-prileganje reže (Precision Clearance Fit), ki ni samo -odporno na prah in -pršenje, ampak tudi učinkovito za izgubo hlapnih elementov pri visokih temperaturah zaradi izhlapevanja.

Profesionalna temeljna vrednota

1. Eno{1}}brezšivno oblikovanje in tesno prileganje z mikronsko -prekrivno ploščo (brezšivna konstrukcija in natančno prileganje pokrova)

Konstrukcija Ko se zelo hlapni vzorec segreje in stopi ali izvor žarka epitaksije z molekularnim žarkom (MBE) izhlapi, tesnilnost posode in enakomernost debeline stene neposredno določata izgubo materiala in eksperimentalno natančnost. Naši miniaturni tantalovi lončki s pokrovom uporabljajo tehnologijo brezšivnega oblikovanja ali visoko natančnega struženja za odpravo kakršnih koli nevarnosti puščanja zaradi varjenja zvarov. Priloženi pokrov rezin je natančno brušen in ga je mogoče brezšivno pritrditi na odprtino lončka, kar učinkovito preprečuje vdor nečistoč in neurejeno razprševanje hlapov hlapnih kovin.

2. Izjemna odpornost proti kemični koroziji za močno korozivne taline

Čisti tantal ima močno korozijsko odpornost na številne staljene kovine (kot so baker, srebro, zlato, svinec, bizmut in nekatere redke zemeljske kovine) in kisle staljene soli pri visokih temperaturah ter ni nagnjen k kemičnim reakcijam z večino organskih spojin. Zaradi tega je zaprt tantalov lonček nosilec za čiščenje kovin-visoke čistosti, taljenje analitskih vzorcev pri visoki temperaturi in sintetiziranje monokristalnih materialov.

3. Ultra-nizko sproščanje plinov za vakuumske peči za ultra visok vakuum (UHV)

Vsi tantalovi lončki s pokrovi so bili podvrženi visokemu vakuumskemu žarjenju in globokemu kemičnemu razmaščevanju, preden so zapustili tovarno, na površini pa ni karbidov, oksidov ali ostankov maščobe. Pri uporabi v visokovakuumskih toplotnih poljih ali uporovnih grelnih pečeh do 10 stopinj Pa se ne bodo sproščali hlapni plini, kar močno ščiti čistost vakuumske komore in prevlečnega filma.

4. Podpora prilagajanju inženirskih risb in kompleksnih struktur (izdelava prototipov po meri in oblikovanje CAD/CAM)

Dobro se zavedamo raznolikih potreb znanstvenoraziskovalnih ustanov in proizvajalcev polprevodniške opreme glede virov izhlapevanja in velikosti lončkov. Od miniaturnih igličastih posod do industrijskih talilnih lončkov z velikim-premerom, v celoti podpiramo malo-serijsko preverjanje ali veliko-serijsko fleksibilno proizvodnjo v skladu s CAD/STEP/DWG/PDF risbami strank in lahko po potrebi zagotovimo posebne posebno-oblikovane strukture s stopničastimi robovi, navojnimi pokrovi ali z luknjami za merjenje temperature.

Osnovni tehnični parametri in specifikacije

Osnovne fizikalne in kemijske lastnosti

Mere, specifikacije in tehnike obdelave

Tipična področja uporabe

Nanašanje polprevodnikov in tankih filmov: žarkovni lonček z molekularno žarkovno epitaksijo (MBE), vir žarkov izparevanja z elektronskimi žarki (E-Beam Crucible Liner), nosilec za izhlapevanje z organskimi svetlečimi -diodami (OLED).

Metalurgija visoke-čistosti (High-Purity Metallurgy): taljenje redkih zemeljskih kovin, čiščenje zlitin, pretaljevanje in ulivanje plemenitih kovin visoke-čistosti.

Laboratorijske in analitične znanosti: Visokotemperaturna termogravimetrična analiza (TGA/DSC), taljenje vzorca z močno kislino, visok vakuum in posoda za toplotno obdelavo pri visoki temperaturi.

Jedrska in vesoljska industrija: posode za testiranje korozivnosti tekočih kovin, visoko{0}}komponente hladilnega telesa in posode za ekstrakcijo izotopov.

Nadzor in izvozna embalaža

Vsak tantalov lonček s pokrovom je bil podvržen strogim meritvam velikosti, brezhibnemu mikroskopskemu pregledu površine in spektroskopiji kemične sestave, preden je zapustil tovarno, po potrebi pa je na voljo poročilo o pregledu materiala (MTC), ki je v skladu s standardom EN 10204 3.1. Kar zadeva embalažo, je izdelek zatesnjen z dvo-slojno vrečko brez prahu, notranja plast pa je vgrajena v oblikovano škatlo iz pene, odporno na udarce, da se zagotovi, da ohišje lončka in pokrov ne bosta izpostavljena spremembam tlaka ali opraskana med čezmejnim-prevozom in ju je mogoče po odprtju dati neposredno v roke strankam. Uporaba v laboratorijih z ultra-visokim vakuumom ali visoko čistočo.